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2014/11/10

著作權登記問題

著作權登記問題


    我國自民國八十七年一月二十一日起正式廢止著作權『登記註冊制度』,依世界各國之制度趨勢修正為『創作保護制度』,此舉表示著作人於著作完成後即享有著作權,不必向任何機關登記註冊。這是尊重著作人創作的保護制度,但也代表若遇到訴訟問題,著作人必須自己負起舉證之責任。許多國家雖然早已經為『創作保護制度』,但並未廢除著作權登記的制度,還是設有政府單位接受著作權登記(EX:美國、日本、大陸、韓國等國),其目的就是為了證明著作的時間與著作人身分。但台灣雖然已修正為『創作保護制度』,但也同時廢除了著作權登記服務,這實在是一個錯誤的政策,雖參考世界各國的做法但是只學了一半,結果就是讓著作人必須自己負起舉證責任,增加了著作人的舉證成本與時間精力。

    因此台灣目前才會有一些民間單位做著作權公證登記的服務,著作權法雖規定,著作人於著作完成後即享有著作權,難道任何人拿到任何資料,任意寫上日期,就可以說他就是最早的創作人嗎?當然不是,所以必須要舉證,著作權法只是在立法意義上擴大保障著作人的權力,但真正著作權的執行還是必須經過法院的判決,所以著作證據的證明力是很重要的。

    目前有「財團法人台灣經濟科技發展研究院」及「中華保護智慧財產權協會」等民間單位提供著作權登記之服務,其服務角色為擔當見證人之用,若遇到法律糾紛可以成為證人身分,其登記之資料與日期也可以成為證物,一般服務費用最低約2000元起跳。另外也有民間的公證事務所,其服務角色也是擔當見證人之用,公證服務費用約2000元。


     當然著作人也可利用其他管道證明自己的創作日期,如刊登在雜誌刊物上,或在網路上發表(但必須考量資料的遺失或變動可能)。比較穩當可靠的方式還是投稿實體雜誌刊物比較保險。如果你的創作沒有什麼商業價值,即使資料遺失或遭變動也不介意,建議您在知名網路平台上發表即可,例如BLOGGERFACEBOOK

2014/11/04

專利陷阱1-送件後的專利也有風險

專利陷阱1-申請中後的專利也有風險


    如果你的專利只申請台灣一個國家,而你也不想申請其他國家,在專利送件後,請記得主動公開你的專利,以免將來有人在其他國家申請同樣的專利(在你的專利公告日前申請,也就是在審查期間申請),導致你的產品無法在他國實施。(若你有其他考量不想太早公開,就必須考慮下述的風險,雖然這種案例發生可能性不高)

CASE STUDY ():當你已經申請了台灣專利且尚未公告,如果台灣有人在你的審查過程中申請了一個跟你相同內容的專利,可是最後兩件都通過公告了,請問你可以主張後申請的那件專利無效嗎,答案是可以,原因如下:
a. 依台灣專利法第23條規定,後申請案不得取得專利

CASE STUDY ():當你已經申請了台灣專利且尚未公告,如果大陸有人在你的審查過程中申請了一個跟你一樣的專利,最後兩件都通過公告了,請問你可以舉發掉大陸的那件專利嗎,答案是不行原因有兩點:
a. 舉發證據必須是已經公開的技術(專利送件不等於已經公開,審查通過公告後才算公開)
b. 依大陸專利法第9條規定,專利授予最先申請者,但因為你並沒有在大陸申請專利,無法在大陸主張這個權力
所以雖然你發明在先,但你的東西並不能賣到大陸去,大陸的那件專利是有效存在的

CASE STUDY ()的案例是一種特殊情況,要剛好有人在別的國家,拿了一件跟你相同內容的專利,而且又剛好在你的專利公告前送出申請,又剛好你沒有在那個國家申請,通常會產生這種狀況的原因有幾種可能:
a.公司內部有內鬼,員工拿專利跑去別的國家申請
b.公司合夥人拆夥,股東拿專利跑去別的國家申請
c.公司資料外流,其他相關廠商拿專利跑去別的國家申請
d.專利事務所做鬼,將你的專利拿去別的國家申請
e.你的專利是最近的熱門產品,但技術門檻不高,大家都想的出來,所以很有可能大陸有人正在申請跟你一樣的東西


***公開的方式有很多種,你可以在網路上公開(資料有遺失風險、舉證麻煩,必須找人公證表示在網路上看過你公開的資料),也可以在刊物上公開(比較可靠的方法,證據力強,不須找人公證)

2014/10/27

騙證書的黑心專利寫法

騙證書的黑心專利寫法



⌂⌂⌂ 一種狡猾奸詐的專利寫法,刻意為了騙過專利審查委員的眼睛,而產生的一種文字技術,目的只是為了取得專利證書,實質內容其實不堪一擊。
⌂⌂⌂ 在本BLOGGER相關文章已提及一張專利證書並不代表什麼,根據智慧財產法院成立5年來的統計,發明專利經IP法院宣告無效比率:66.95%(7成的發明專利皆屬無效)

專利黑魔法利用文字技術騙過審查委員的眼睛
如果你的情況有以下特徵,就要小心了,你的專利證書可能只是一種利用文字技術暫時騙過審查委員眼睛,而得到的證書。

徵兆:
1.你的專利是不是有申請發明專利,是不是有申請美國專利。
2.你的專利是不是被事務所加了許多元素、許多元件,功能五花八門,越寫越複雜,你給事務所的資料只有一點點,可是卻大贈送,給你一大堆。
3. 專利說明書寫的很難懂,要非常仔細閱讀,連結關係複雜,很多東西都混在一起,層次不分明,邏輯中有邏輯,分類中有分類,感覺像拼裝車,像東拚西湊的大滷麵。

原因:
1.當你申請的是發明專利,因為必須經過實質審查,所以能不能拿到那張證書跟客戶交代,才是事務所的目的,而美國專利一律是發明,所以證書一定要想辦法拿到,至於那張證書有沒有實質效力,不是事務所關心的事情。

2.專利的主要審查依據是新穎性,新穎性不等於商業價值,審查委員只會依新穎性做技術審查,當你的技術特徵為A+B+C具有新穎性的機會很低,但當你的技術特徵為A+B+C+a+b+c+ a1+b2+c3,具有新穎性的可能很高,容易拿到專利證書,所以事務所才會給你東加西加,但這麼複雜的組合可能根本沒有任何商業價值。

3.審查委員不是萬能,即使是全世界審查水準最高的美國專利局,美國審查委員一樣會被騙倒,因為世界上的技術何其多,廣大資料海何其多,審查也有一定的時間限制,一個申請案不可能通通仔細研究比對,當然利用文字技術騙倒審查委員的眼睛也不是什麼新鮮事,這就是專利的遊戲規則,我只是在一定的審查基準下給你專利,至於你要鑽制度漏洞是你的事,不管如何專利是要經過法院訴訟才能執行專利權。

4. 騙審查委員的技巧,說穿了就是將技術特徵越寫越多、越寫越小、組合的很複雜,讓審查委員眼花撩亂,讓審查委員一時之間很難找到一樣的前案作比對,因此僥倖獲得專利權,但是這種專利可能在遇到訴訟時就會破功,因為對方陣營會非常仔細地解讀你的專利,抽絲剝繭一一打掉你的專利權,另一種可能就是專利範圍寫的過小,以至於根本不會有人踩到你的專利或是輕鬆迴避成功

(EX: A+B+C+a+b+c+ a1+b2+c這麼複雜的技術組合,很難有人剛好跟你一樣)


2014/09/04

智慧財產局程度要加強


智慧財產局程度有待加強



***當你拿到智慧財產局發給你的專利證書時,千萬不要高興得太早,千萬不要輕啟訴訟,因為你會敗訴的機率相當高

智慧財產局不知道在審時什麼東西?
根據智慧財產法院成立5年來的統計,於2008/7-2012/6之間的審理案件:
專利原告勝訴比率:11.6% (約只有1成的人會勝訴)
發明專利經法院宣告無效比率:66.95%(7成的發明專利皆屬無效)
資料來源:智慧財產法院統計室

l  由以上的資料可知,智慧財產局的審查水準相當差,7成的發明專利被法院宣告無效
l  既然智慧財產局是審查單位,審查水準好像沒有人管,居然高達7成經審查通過公告的專利,最後被宣告無效
l  發明人繳的申請費、審查費,全國納稅人繳的稅,不都白繳了,大家養智慧財產局讓你在那邊亂審一通

智慧財產局還是公家單位
l  因智慧財產局還是公家單位,比照台灣政府單位的水準,你就可以推估智慧財產局的水準也不會太好,通常審查委員的實務設計或製造經驗皆不足,甚至根本沒有任何實務經驗,考試考過了就可以來當審查委員了,再者能力好的工程師會在業界發展還是選擇公家飯,答案很明顯,通常是專業沒念出興趣、不想被操、也不能被操、在業界表現不佳的工程師,跑來當公務員的機會較高
l  審查委員程度不佳,自然無法精準判斷出技術的新穎性、差別性,看不出重點,也不清楚技術原理與應用方式

  
修正檢討還是做錯 :用偷懶的方式解決問題
l  當智慧財產局看到智慧財產法院的統計資料,當然會修改檢討,所以最近對發明專利的審查有變嚴格的趨勢,目的是要降低核准率,但是方法還是不對,程度不佳就用偷懶的方式來解決問題
l  台灣的審查委員最慣用與偷懶的說法,就是找幾篇相關的引證文獻,然後就說你案子的技術特徵屬於上述引證案的簡單變化、簡單組合,故不具新穎性,並沒有針對技術特徵或技術思想做出完整邏輯性的分析與比對
l  也就是說,第一次不會很仔細的審核,先拿一些看似相關的前案核駁你再說,用固定的套招方式,先COPY”屬於上述引證案的簡單變化、簡單組合,故不具新穎性然後貼上,就完成審查了
  

解決辦法 : 聘用具實務經驗的工程師、非用考試掄才
l  找到優秀人才是提升素質、解決問題的唯一辦法
l  真正優秀的工程師不會喜歡八股考試
l  用考試掄才,這種齊頭式平等的方法,只能找到平庸型的人才
l  將應徵過程與評選資料一切透明化
l  評選委員必須寫出評選理由,評選委員的名字必須公開
l  優秀人才一進來,很多問題他們會自動提出、自動解決;而平庸型的人才不會提出問題、也不願面對問題、更不會解決問題、也不想提升自己的程度、都是用應付的心態完成工作。

我,此作品的版權所有人,釋出此作品至 公共領域 此授權條款在全世界均適用。
我授予任何人有權利使用此作品於 任何用途,不受任何限制。

2014/08/31

國際單位制(SI制)

國際單位制(SI)


國際單位制之簡介
國際單位制是世界上最普遍採用的標準度量衡單位系統,採用十進制進位系統,其國際縮寫SI依據國際度量衡大會(The General Conference on Weights and Measures  法文為Conférence Générale des Poids et Mesures, 簡稱CGPM)重要決定的歷史演變記事,可知國際單位制源起於1790年法國科學院制定之十進位制。
為建立一適合全球所有科學上應用之量測單位系統,1948年第九屆CGPM決議,指示國際度量衡委員會(Comité Internationl des Poids et Mesures, 簡稱CIPM)就如何制定適合米制公約(Convention du Mètre)全體簽署採行的實用度量衡單位制提出建議;1954年第十屆CGPM決議採用「公尺」、「公斤」、「秒」、「安培」、「克耳文」、「燭光」等六個單位作為此實用度量衡單位制的基本單位,此一實用度量衡單位制,經1960年第十一屆CGPM正式命名為國際單位制(Internationl System of Units,法文為Le Système International d'Unités),並簡稱縮寫為SI
此後在CGPMCIPM陸續所召開的會議也對SI的原始組織結構作出增補,必要時並且加以修改,以將科學和使用者需求上的突飛猛進納入其中,包括於1971年第十四屆CGPM又決議採用第七個基本單位「莫耳」。

SI制之基本單位 (Base units)

SI在制定時,選定七個相互獨立的基本量,對其單位給予嚴格的理論定義,稱為基本單位。
SI的基本單位包括公尺公斤克耳文安培燭光莫耳等七種。表1中列出SI七個基本單位,每種單位相互之間互為獨立關係。
             1SI基本單位
量之名稱
單位
 
【中文代號】
定義
長  度
公  尺
m
(公尺)
光在真空中於1/299792458秒內行進的距離定義為1公尺
質  量
公  斤
kg
(公斤)
存放於法國巴黎國際度量衡局的「國際公斤原器」定義為1公斤。
時  間
s
(秒)
133原子基態的兩個超精細能階間躍遷對應輻射的8,192,631,770個週期的持續時間定義為1
電  流
安  培
A
(安培)
真空中相距為1的兩根無限長平行直導線,通以相等的恆定電流,當每米導線上所受作用力為2×10−7N時,各導線上的電流為1安培
熱力學溫度
K
(克耳文)
水的三相點絕對零度相差的1⁄273.16定義為1開爾文
   
莫  耳
mol
(莫耳)
1. 所含基本微粒個數與0.012公斤-12中所含原子個數相等的一系統物質的量定義為1莫耳
2.
使用摩爾時,應指明基本微粒,可以是分子、原子、離子、電子或其他基本微粒,也可以是基本微粒的特定組合體。
燭  光
cd
(燭光)
給定一個頻率 540.0154×1012 Hz 的單色輻射光源(黃綠色可見光)與一個方向,且該輻射源在該方向的輻射強度 1/683 W/sr,則該輻射源在該方向的發光強度為1燭光。

SI制之導出單位(Derived units

導出單位係按物理量的關係式,以代數的形式,由基本單位或其他單位表示。導出單位的代號主要經由乘法與除法數學運算式獲得。

導出單位又可分為下列三種型態:
1. 以基本單位表示之導出單位(如表2所示)
2. 以特定名稱或代號表示之導出單位(如表3所示)
3. 以基本單位及特定名稱或代號表示之導出單位(如表4所示)

2以基本單位表示之導出單位
編號
量之名稱
單位名稱
 
【中文代號】
2.1
面  積
平方公尺
m2
(平方公尺)
2.2
體  積
立方公尺
m3
(立方公尺)
2.3
速  度
公尺每秒

m/s
(公尺/秒)
2.4
公尺每平方秒
m/s2
(公尺/平方秒)
2.5
密  度
公斤每立方公尺
kg/m3
(公斤/立方公尺)
2.6
比  容
立方公尺每公斤
m3/kg
(立方公尺 /公斤)
2.7
電流密度
安培每平方公尺
A/m2
(安培/平方公尺)
2.8
磁場強度
安培每公尺

A/m
(安培/公尺
編號
量之名稱
單位名稱
 
【中文代號】
2.9
物量濃度
莫耳每立方公尺
mol/m3
(莫耳/立方公尺
2.10
亮  度
燭光每平方公尺
cd/m2
(燭光/平方公尺)
2.11
1  (數值)
1
2.12
體積流率
立方公尺每秒
m3/s
(立方公尺/ 秒)
2.13
質量流率
公斤每秒
kg/s
(公斤/秒)
2.14
平方公尺每秒
m2/s
(平方公尺 / 秒)

3. 以特定名稱或代號表示之導出單位
編號
量之名稱
單位名稱
 
【中文代號】
3.1
rad
(弳)
3.2
立  弳
sr
(立弳)
3.3
頻  率
Hz
(赫)
3.4
牛  頓
N
(牛頓)
3.5
壓  力
Pa
(帕斯卡)
3.6
焦  耳
J
(焦耳)
3.7
   
瓦  特
W
(瓦特)
3.8
庫  侖
C
(庫侖)
3.9
伏  特
V
(伏特)
3.10
電  容
法  拉
F
(法拉)
編號
量之名稱
單位名稱
 
【中文代號】
3.11
電  阻  
歐  姆
Ω
(歐姆)
3.12
電  導
西  門
S
(西門)
3.13
韋  伯
Wb
(韋伯)
3.14
磁通密度
T
(特士拉)
3.15
電  感
亨  利
H
(亨利)
3.16
攝氏溫度
攝  度
(攝度)
3.17

流  明
lm
(流明)
3.18
lx
(勒克斯)
3.19
   
(放射性)
貝  克
Bq
(貝克)
3.20
吸收劑量
戈  雷
Gy
(戈雷)
3.21
比釋動能
戈  雷
Gy
(戈雷)
3.22
等效劑量
西  弗
Sv
(西弗)
註:3.193.22係用於游離輻射之導出單位及其專有名詞


4以基本單位及特定名稱或代號表示之導出單位
編號
量之名稱
單位名稱
 
【中文代號】
4.1
   
帕斯卡秒
Pas
(帕斯卡秒)
4.2
力  矩
牛頓公尺
Nm
(牛頓公尺)
編號
量之名稱
單位名稱
 
【中文代號】
4.3
表面張力
牛頓每公尺
N/m
(牛頓/公尺)
4.4
rad/s
(弳/秒)
4.5
角加速度
弳每平方秒
rad/s2
(弳/平方秒)
4.6
   度
瓦特每平方公尺
W/m2
(瓦特/平方公尺)
4.7
焦耳每克耳文
J/K
(焦耳/克耳文)
4.8
焦耳每公斤克耳文
J/(kgK)
焦耳/(公斤克耳文)
4.9
比  能
焦耳每公斤
J/kg
(焦耳/公斤)
4.10
導熱係數
瓦特每公尺克耳文

W/(mK)
瓦特 /(公尺克耳文)
4.11
能量密度
焦耳每立方公尺
J/m3
(焦耳/立方公尺)
4.12
電場強度
伏特每公尺
V/m
(伏特/公尺)
4.13
電量密度
庫侖每立方公尺
C/m3
(庫侖/立方公尺)
4.14
電通量密度
庫侖每平方公尺
C/m2
(庫侖/平方公尺)
4.15
法拉每公尺
F/m
(法拉/公尺)
4.16
亨利每公尺
H/m
(亨利/公尺)
4.17
焦耳每莫耳
J/mol
(焦耳/莫耳)
4.18
莫耳熱容量
焦耳每莫耳克耳文
J/(molK)
焦耳/ (莫耳克耳文)
4.19
   
(cγ射線)
庫侖每公斤
C/kg
(庫侖/公斤)
4.20
吸收劑量率
戈雷每秒
Gy/s
(戈雷/)
編號
量之名稱
單位名稱
 
【中文代號】
4.21
輻射強度
瓦特每立弳

W/sr
(瓦特/立弳)
4.22
輻射亮度
瓦特每平方公尺立弳

W/(m2sr)
瓦特/(平方公尺立弳)
4.23
庫侖每公斤秒

C∕(kgs)
庫侖/(公斤)
4.24
等效劑量率
西弗每秒

Sv/s
(西弗/)

參考資料來源: 1.經 濟 部 標 準 檢 驗 局